科晶大功率實驗室真空高溫管式爐內膛中嵌有ZrO2內襯☁₪◕✘，並採用Kanthal Super-1900矽鉬棒為加熱元件☁₪◕✘，Z高溫度可以達到1800℃☁₪◕✘，廣泛用於真空或惰性氣體保護狀態下☁₪◕✘，新材料樣品的燒結和退火◕₪•│。

實驗室真空高溫管式爐採用1800℃級矽鉬棒為加熱元件☁₪◕✘，Z高溫度可達到1700℃☁₪◕✘，可廣泛地用於真空或惰性氣體保護狀態下材料的燒結和退火◕₪•│。

實驗室科晶高溫真空管式爐是小型高溫管式爐☁₪◕✘，採用高純氧化鋁剛玉爐管和矽碳棒加熱元件☁₪◕✘，設有兩個真密封法蘭☁₪◕✘，控制系統採用高精度可控矽移相觸發控制☁₪◕✘，其控溫精度為±1℃☁₪◕✘，可設定30段升降溫程式☁₪◕✘，Z高溫度可達1500℃

1200℃單溫區開啟式真空管式爐專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業☁₪◕✘，在可控多種氣氛及真空狀態下☁₪◕✘，對金屬✘☁│、非金屬及其它化合物進行燒結✘☁│、熔化✘☁│、分析而研製的裝置◕₪•│。

1200℃開啟式雙溫區管式爐zui高溫度可達到1200℃☁₪◕✘，並可透過調節兩個獨立的控溫程式☁₪◕✘，使爐管內溫度場形成一梯度◕₪•│。本機可用CVD方法來生長奈米材料和製作各種薄膜◕₪•│。